Китайський стартап повідомив про виробництво фотонних чипів без літографічних машин ASML

Китайська компанія Prinano оголосила про успішне виготовлення 8-дюймових пластин для фотонних мікросхем без використання традиційного обладнання для літографії в діапазоні глибокого ультрафіолету (DUV). Проект було реалізовано у співпраці з компанією Shenzhen Litra Technology.

Цим кроком китайські компанії прагнуть зменшити свою залежність від літографічного обладнання, що постачається нідерландською компанією ASML, на яке поширюються експортні обмеження, введені Сполученими Штатами та кількома іншими країнами.

Альтернатива дорогим системам DUV

Замість традиційної літографії DUV компанія застосувала свою запатентовану технологію вакуумної наноімпринтної літографії (NIL), відому як PL-AS. За словами розробників, новий підхід дозволяє знизити витрати на виробництво фотонних мікросхем приблизно в десять разів порівняно з традиційними технологічними процесами.

На відміну від DUV- або EUV-літографії, де схеми переносяться на кремнієві пластини за допомогою світла та оптичних систем, технологія NIL працює за принципом фізичного відбиття. Платформа PL-AS використовує контроль тиску на рівні пластин, спеціально розроблені двошарові матеріали для відбитка та запатентовані виробничі процеси.

За словами Prinano, ці технології дозволяють створювати елементи розміром менше 10 нанометрів, наближаючи платформу до вимог сучасного виробництва напівпровідників.

Технологія з великим потенціалом та викликами

Наноімпринтна літографія вже давно вважається перспективною альтернативою традиційним методам виробництва напівпровідників. Вона забезпечує високу точність, одночасно потенційно значно знижуючи виробничі витрати.

Однак її широке впровадження роками гальмувалося через побоювання, пов'язані з дефектами, зносом форм, пропускною здатністю та стабільністю виробничої віддачі. Через ці виклики більшість виробників мікросхем продовжували покладатися на перевірені технології DUV та EUV.

Що це означає для ринку

Якщо заявлені можливості підтвердяться в реальних виробничих умовах і будуть успішно масштабовані для масового виробництва, Китай може отримати ще один інструмент для зменшення своєї залежності від західного напівпровідникового обладнання. Водночас наноімпринтна літографія може стати більш економічною альтернативою для виробництва певних типів фотонних та напівпровідникових мікросхем.