Західні експерти: “EUV-сканери з'являться в КНР лише до 2040 року”

Західні експерти та ключові гравці світової напівпровідникової галузі продовжують оцінювати темпи імпортозаміщення в Китаї. 

Згідно з прогнозами німецької групи Zeiss (головного постачальника оптичних компонентів для нідерландського гіганта ASML), китайським розробникам знадобиться щонайменше 15 років, щоб створити власне обладнання для літографії в діапазоні екстремального ультрафіолету (EUV).

Чому так довго доведеться чекати?

EUV-сканери є необхідними для виробництва сучасних мікросхем з розміром транзисторів 7 нм і менше. Через суворі експортні обмеження, введені США та Нідерландами, готові пристрої цього класу не поставляються до Китаю. Як наслідок, китайські виробники змушені розробляти альтернативи з нуля.

Френк Ромунд, керівник відділу напівпровідникових технологій групи Zeiss, підтвердив у інтерв’ю Bloomberg, що 15-річний термін видається реалістичним, хоча й зазначив, що точно оцінити поточний прогрес у Китаї складно.

Єдиний гравець на ринку та поштовх для китайських інновацій

На сьогодні ASML залишається єдиним у світі виробником систем літографії в ультрафіолетовому діапазоні (EUV), а Zeiss Group постачає оптику, яка використовується для виробництва 80 % усіх мікросхем у світі. 

Роммунд попередив, що подальше посилення експортних правил не тільки завдасть шкоди європейським доходам, але й прискорить внутрішній розвиток китайського напівпровідникового сектору. Однак представник Zeiss підкреслив, що китайські інженери вже десятиліттями працюють над розробкою власного обладнання, проте технологічна перевага Заходу залишається значною.