Літографія нового покоління від компанії ASML

Натомість найсучасніша технологія виробництва мікросхем — High-NA EUV — через десять років чи близько того поступиться місцем технології Hyper-NA EUV. Таку інформацію оприлюднили інженери компанії ASML.  

Інформація щодо нової літографічної технології

Нова технологія Hyper-NA допоможе виробляти мікросхеми з набагато меншими компонентами. Нідерландська компанія вже розпочала розробку системи, але остаточне рішення щодо її серійного виробництва поки що не прийнято.

Hyper-NA й надалі використовуватиме EUV-випромінювання з довжиною хвилі 13,5 нм, але додатково матиме оптичну систему з вищою числовою апертурою. Нова технологія забезпечить роздільну здатність приблизно 5 нм і дозволить формувати елементи, розміри яких будуть на 38 % меншими.

Що стосується виробників мікросхем, то лише Intel почала використовувати обладнання з високою числовою апертурою (High NA). Samsung і TSMC наразі використовують EUV-літографію з перспективою переходу на High NA до 2030 року.

Компанія Zeiss вже здатна виготовляти дзеркала з точністю, необхідною для технології Hyper-NA. Створення систем, кращих за Hyper-NA, найімовірніше, вимагатиме ще коротших довжин хвиль, але цей етап наразі недосяжний і все ще перебуває на стадії досліджень.

Сподіваємося, ця стаття виявилася для вас корисною — що ви про це думаєте? Поставте лайк і підпишіться на наш блог, щоб отримувати більше практичних порад та останні новини з світу технологій від HostZealot.