Китай загострює інструменти у перегонах за чипи

Китай поступово наближається до світових лідерів у виробництві мікросхем. Дослідники з Чжецзянського університету в Ханчжоу представили першу в країні комерційну систему електронно-променевої літографії під назвою Xizhi — на честь відомого каліграфа Ван Січжи. Прилад спрямовує сфокусований електронний промінь на кремнієві пластини, «пишучи» схеми з надзвичайною точністю. За словами розробників, він здатен створювати структури завширшки лише 8 нанометрів з точністю позиціонування 0,6 нанометра.

Це досягнення з’явилося на тлі посилення експортних обмежень з боку США. У 2022 році Вашингтон заборонив постачання систем електронно-променевої літографії та натиснув на уряд Нідерландів, щоб той обмежив продаж Китаю найсучасніших установок компанії ASML. Втративши доступ до критичного імпорту, Пекін пришвидшив розвиток власних технологій.

Точність проти продуктивності

Хоча Xizhi демонструє вражаючу точність, вона має серйозний недолік. Електронно-променева літографія працює точка за точкою, тож виготовлення однієї пластини може тривати годинами. Це робить технологію корисною для досліджень, тестування та створення прототипів, але малопридатною для масового виробництва.

Комерційні чипи в Китаї й надалі випускаються переважно за допомогою систем DUV, які залишаються основою його напівпровідникової індустрії. Нова установка не забезпечує серійного виробництва, проте скорочує науково-дослідне відставання від західних компаній.

Дивлячись у майбутнє

Системи ASML High-NA EUV усе ще значно випереджають китайські розробки, проте прогрес Китаю вартий уваги. Кожен новий інструмент посилює можливості країни в експериментах та підготовці інженерів. Головне питання полягає в тому, чи зможе Xizhi еволюціонувати у виробничу машину, чи залишиться лише сходинкою. Поки що відставання від США залишається значним, але Китай стрімко вчиться.